1 - гнц рф тринити
advertisement
На правах рукописи Иванов Александр Сергеевич ИСТОЧНИК ЭКСТРЕМАЛЬНОГО УФ ИЗЛУЧЕНИЯ ( 13,5 нм) НА ОСНОВЕ РАЗРЯДА ТИПА ЛАЗЕРНОИНДУЦИРОВАННОЙ ВАКУУМНОЙ ИСКРЫ В ПАРАХ ОЛОВА 01.04.08 – физика плазмы Автореферат диссертации на соискание учёной степени кандидата физико-математических наук Троицк 2008 2 Работа выполнена в Государственном научном центре Российской Федерации Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований (ГНЦ РФ ТРИНИТИ) Научный руководитель: доктор физико-математических наук Виноходов А. Ю. Официальные оппоненты: доктор физико-математических наук, профессор Ковальский Н. Г. доктор физико-математических наук, профессор Сейсян Р. П. Ведущая организация: Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН Защита диссертации состоится “05” декабря 2008 г. в “14” часов “00” минут на заседании диссертационного Совета Д 201.004.01 при ГНЦ РФ ТРИНИТИ по адресу: 142190, Московская обл., г. Троицк,ул. Пушковых, владение 12. С диссертацией можно ознакомиться в библиотеке ГНЦ РФ ТРИНИТИ Автореферат разослан 28 октября 2008 г. Ученый секретарь диссертационного совета, кандидат физико-математических наук Казаков С.А. 3 Общая характеристика работы Актуальность работы Для дальнейшего развития микроэлектроники необходимо создание следующего поколения промышленных литографических систем. Среди существующих альтернативных технологий, наиболее привлекательной является технология проекционной фотолитографии в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (ЭУФ литография), которая использует излучение в диапазоне длин волн 13,5 0,135 нм. Ключевое значение для ЭУФ литографии имеет разработка эффективного источника ЭУФ излучения, обладающего высокой средней мощностью излучения. В настоящее время наиболее перспективными с точки зрения получения максимальной эффективности, высокой средней мощности и возможностей дальнейшего масштабирования являются разрядные источники ЭУФ излучения на основе разряда типа лазерноиндуцированной вакуумной искры в парах олова. Исследование физических процессов образования высокотемпературной плазмы и генерации ЭУФ излучения в разряде типа лазерноиндуцированной вакуумной искры в парах олова является важной и актуальной задачей для создания источника ЭУФ излучения. Цель работы Целью диссертационной работы являлось исследование физических процессов, происходящих в разряде типа лазерноиндуцированной вакуумной искры в парах олова, и их влияния на энергетические и пространственные характеристики ЭУФ излучения, соответствующие требованиям ЭУФ литографии. Задачи исследований Достижение поставленной цели потребовало решения следующих основных задач: - исследования физических процессов, происходящих при инициировании разряда лазерным излучением, и определения оптимальных параметров лазерного импульса для достижения максимальных выходных характеристик источника ЭУФ излучения. - исследования физических процессов, происходящих в разряде типа вакуумной искры, и их влияния на выходные параметры источника ЭУФ излучения. - поиска режимов возбуждения разрядного импульса, способствующих эффективной генерации ЭУФ излучения с требуемыми для ЭУФ литографии энергетическими и пространственными параметрами. 4 Методы исследований При решении перечисленных задач основным методом являлся физический эксперимент с привлечением методов численного моделирования изучаемых физических процессов и интерпретация полученных экспериментальных данных на основе теоретического анализа. Научная новизна работы Научная новизна диссертационной работы заключается в следующем: 1) Обнаружено, что для достижения максимальной эффективности источника ЭУФ излучения на основе разряда типа лазерноиндуцированной вакуумной искры в парах олова необходимо обеспечить достижение плотностью мощности лазерного импульса некоторого порогового значения, которое зависит от длины волны лазерного излучения, размеров фокального пятна и расстояния между электродами. 2) Установлено, что существует оптимальное значение скорости нарастания разрядного тока, при котором эффективность источника ЭУФ излучения достигает максимального значения. 3) Обнаружено, что осуществление предварительного разряда приводит к уменьшению пространственных размеров плазмы, генерирующей ЭУФ излучение. 4) Обнаружен эффект повышения эффективности ЭУФ источника при наличии временной задержки между моментом коммутации межэлектродного промежутка инициирующей лазерной плазмой и началом разрядного импульса. При этом оптимальное значение временной задержки зависит от плотности мощности инициирующего лазерного излучения. 5) Установлена природа энергетической и пространственной нестабильности ЭУФ излучения, связанная с модификацией профиля поверхности электрода, облучаемого инициирующим лазерным импульсом. 6) Проведено сравнительное исследование энергетических и пространственных характеристик ЭУФ излучения при разной полярности электродов. Найдено, что по совокупности параметров более предпочтительным для использования в ЭУФ литографии является облучение инициирующим лазерным импульсом катода. Защищаемые положения Автор выносит на защиту следующие основные положения: 1. Зависимость эффективности источников ЭУФ излучения на основе разряда типа лазерноиндуцированной вакуумной искры на парах олова от плотности мощности лазерного излучения имеет насыщающийся характер, 5 при этом переход в насыщение зависит от длины волны лазерного излучения, размеров фокального пятна и расстояния между электродами. 2. Доказано существование оптимального значения скорости нарастания разрядного тока, равного dI/dt 0,41012 А/с, при котором достигается максимальное значение эффективности источника ЭУФ излучения в диапазоне длин волн 13,5 0,135 нм. 3. Найден режим ввода энергии в разряд, при котором происходит увеличение эффективности источника ЭУФ излучения и уменьшение пространственных размеров плазмы, излучающей в ЭУФ диапазоне спектра. 4. Установлено, что природа энергетической и пространственной нестабильности ЭУФ излучения связана с изменением профиля поверхности облучаемого инициирующим лазерным импульсом электрода под действием разряда при работе источника ЭУФ излучения в импульсно-периодическом режиме. Вклад автора В результаты совместных работ автором внесен определяющий вклад, выраженный в постановке и проведении экспериментов, разработке и проектировании экспериментальной техники, в определении задач теоретического исследования, анализе результатов экспериментов и их интерпретации. Структура и объем диссертации Диссертация состоит из введения, четырех глав, заключения и содержит 153 страницы машинописного текста, 134 рисунка, 2 таблицы и список цитируемой литературы из 141 наименования. Содержание работы В введении обоснована актуальность проводимых исследований, указана цель и задачи, при решении которых эта цель достигается. Приводится краткое содержание диссертации, формулируются основные защищаемые положения, новизна и практическая значимость полученных результатов. Глава I представляет собой литературный обзор, в котором рассмотрены основные принципы ЭУФ литографии и приводятся требования, предъявляемые к источникам излучения для ЭУФ литографии. Согласно этим требованиям, источник должен генерировать ЭУФ излучение в диапазоне длин волн 13,5 0,135 нм в телесный угол 1,8 ср с высокой 6 энергетической ( 1%) и пространственной ( 1% от размеров) стабильностью от импульса к импульсу. При этом характерный размер плазмы, генерирующей ЭУФ излучение, не должен превышать 1,5 мм. Для повышения эффективности генерации ЭУФ излучения используется плазма, содержащая многозарядные ионы лития (Li), ксенона (Xe) или олова (Sn), которые являются основными источниками селективного излучения в требуемом спектральном диапазоне. Рассматриваются свойства и характеристики соответствующей плазмы. Показано, что наибольшей эффективностью обладает плазма многозарядных ионов олова (Sn7+Sn12+), которые имеют пик излучения в требуемом спектральном диапазоне. Представлено современное состояние разработок лазерных и разрядных источников излучения для ЭУФ литографии. Рассмотрены основные достоинства и недостатки данных источников ЭУФ излучения. В главе II приведено описание экспериментальной установки, на которой проводились исследования. Схема установки и ее основные функциональные системы представлены на рис.1. Вакуумная камера 1 откачивалась турбомолекулярным насосом 2. При Рис.1. Схема установки и ее основные функциональные системы: 1 – вакуумная камера; 2 – турбомолекулярный насос; 3 – форвакуумный насос; 4 – баллон с аргоном; 5 – газовый натекатель; 6 – электродная система; 7 – схема возбуждения разряда; 8 – блок запуска тиратрона; 9,10 – блоки синхронизации; 11 – лазер; 12 – оптическая система с фокусирующей линзой; 13 – система регистрации ЭУФ излучения; 14 – осциллограф; 15 – камера-обскура с ПЗС матрицей; 16 – ПЭВМ; 17 – система водяного охлаждения; 18 - система масляного охлаждения. 7 проведении экспериментов рабочее давление в камере составляло 10-3 Торр. Электродная система источника состояла из высоковольтного электрода, содержавшего оловянную вставку, и заземленного электрода с центральным отверстием для ввода инициирующего лазерного импульса и вывода ЭУФ излучения. Эксперименты проводились с оловом как в твердом, так и в жидком состоянии. Межэлектродное расстояние могло изменяться, но обычно составляло 3 мм. Для инициирования разряда использовалось излучение эксимерного KrF лазера с длиной волны излучения 248 нм и СО2 лазера с 10,6 мкм. Оптическая система 12 фокусировала излучение лазера на поверхность оловянной вставки, при этом максимальная плотность мощности лазерного излучения в фокусе составляла 3109 Вт/см2 и 4108 Вт/см2 для KrF и СО2 лазера соответственно. Энергетические параметры ЭУФ излучения в спектральном диапазоне 13,5 0,135 нм регистрировались с помощью калиброванных измерителей энергии на основе фотодиодов. Для измерения пространственных характеристик излучающей плазмы использовалась камера обскура, которая состояла из диафрагмы диаметром 100 мкм и ПЗС матрицы с нанесенным фосфоресцирующим слоем. Фильтрация длинноволнового излучения осуществлялась с помощью Be или Zr фильтра. Разрешение камеры составляло 50100 мкм. Эмиссия заряженных частиц из зоны разряда регистрировалась посредством цилиндра Фарадея и коллектора электронов. Параметры схемы возбуждения разряда измерялись калиброванными высоковольтными делителями и поясом Роговского. Схемы возбуждения разряда, применявшиеся при проведении экспериментов, обеспечивали импульсную зарядку конденсаторной батареи емкостью С1 0,241,92 мкФ, подсоединенной к электродной системе, до напряжения U 1,510 кВ. Минимальная индуктивность разрядного контура составляла L 4 нГн. Высоковольтный импульсный трансформатор позволял проводить эксперименты при разной полярности электродов. В главе III представлены результаты исследования основных физических процессов, происходящих при работе источника ЭУФ излучения. В первом параграфе данной главы приведены результаты исследования инициирования Рис.2. Типичные изображения излучающей плазмы при облучении лазерным импульсом катода (А) и анода (Б). 8 разряда импульсом лазерного излучения. Минимальная плотность мощности лазерного излучения, необходимая для инициирования разряда, совпадает с порогом плазмообразования. Показано, что существует временная задержка между воздействием лазерного импульса и началом разрядного тока, которая вызвана распространением образующейся лазерной плазмы в межэлектродном промежутке. Рассмотрено влияние полярности электродов на процессы, происходящие при инициировании разряда. Во втором параграфе рассматриваются процессы, происходящие в разряде типа вакуумной искры. Показано, что при облучении лазерным импульсом катода происходит сжатие плазмы под действием магнитного поля тока. В результате развития неустойчивости типа перетяжки (m = 0), возле поверхности катода формируется микропинч, который эффективно генерирует ЭУФ излучение. Типичные размеры излучающей плазмы возле катода составляют 0,2х0,3 мм2 (ширина на уровне половинной интенсивности). При определенных условиях могут происходить повторные сжатия плазмы в перетяжке. В результате воздействия на поверхность анода ЭУФ излучения, а также ускоренных пучков электронов и кумулятивных струй высокотемпературной плазмы, образующихся при сжатии плазмы в перетяжке, может происходить генерация ЭУФ излучения возле анода (рис.2А). Рассмотрены особенности процессов генерации ЭУФ излучения при облучении лазерным импульсом анода. В этом случае высокотемпературная плазма образуется, в основном, под действием ускоренных пучков электронов, бомбардирующих Рис.3. Последовательность импульсов поверхность анода. При этом энергии ЭУФ излучения (отн.ед./кл) при величина энергии ЭУФ излучения облучении лазерным импульсом анода (1) может быть больше, чем при и катода (2). обучении катода, что, однако, сопровождается высокой энергетической нестабильностью от одного разрядного импульса к другому (рис.3). Типичный размер излучающей плазмы при облучении анода составляет 11,2 мм (ширина на уровне половинной интенсивности) (рис.2Б), что не удовлетворяет требованиям, предъявляемым к источникам излучения для ЭУФ литографии, поэтому в дальнейшем рассматривается в основном случай, когда инициирующий лазерный импульс воздействует на катод. 9 В третьем параграфе представлены результаты исследования процессов, происходящих при работе источника ЭУФ излучения в импульсно-периодическом режиме. Показано, что при работе ЭУФ источника с твердым оловом под действием разряда происходит модификация профиля поверхности олова, которая приводит к падению уровня энергии ЭУФ излучения, ухудшению энергетической и пространственной стабильности излучающей плазмы (рис.4), а затем и прекращению пробоя разрядного промежутка. Выяснено, что использование жидкого олова позволяет избежать возникновения нестабильности при работе источника ЭУФ излучения в импульсно-периодическом режиме. Рис.4. Процесс распада пятна излучающей плазмы возле катода, происходящий при формировании кратера. В четвертом параграфе третьей главы приведены результаты исследования продуктов эрозии электродов, которые образуются при работе ЭУФ источника, а также методы защиты элементов оптической системы. Показано что корпускулярные продукты эрозии электродов состоят из ионизированной, паровой и капельной фракции. Рассматривается воздействие данных продуктов эрозии на элементы оптической системы и методы защиты от них. Глава IV посвящена результатам экспериментального исследования влияния параметров инициирующего лазерного излучения и схемы возбуждения разряда на характеристики источника ЭУФ излучения. В первом параграфе данной главы представлено исследование воздействия параметров лазерного импульса на энергетические и пространственные характеристики источника ЭУФ излучения. Найдено, что инициирование разряда происходит при замыкании межэлектродного промежутка двукратно ионизованными ионами олова, которые ускоряются амбиполярным полем электронов и приобретают большую скорость разлета, по сравнению с однократно ионизованными ионами. Показано, что ключевым параметром лазерного импульса является плотность мощности лазерного излучения на поверхности электрода. Эффективность источника ЭУФ излучения зависит от электрической проводимости лазерной плазмы , по которой протекает ток разрядного импульса. При острой фокусировке лазерного излучения (q22R0)1/3, где q – плотность мощности излучения, - длина волны лазера, R0 – характерный размер фокального пятна. Показано соответствие полученных экспериментальных данных с теоретическими зависимостями (рис.5). Результаты экспериментов с Nd:YAG и XeF лазерами 10 2.2 Ýô ô åê òè âí î ñòü, î òí . åä. Ýô ô åê òè âí î ñòü, % (2 ñð , ) получены на другом ЭУФ источнике с аналогичной конструкцией электродной системы. 3 2 1.8 1.6 4 1 1.4 2 1.2 8 1 6 4 2 2 0 1 1 0 10 Ï àð àì åòð q R 0) 10 9 Âò ì ê ì /ñì Рис.5. Зависимость эффективности ЭУФ источника от параметра q(2R0)1/3 для СО2 лазера (1) ( 10,6 мкм; 0,55х0,64 мм2), Nd:YAG лазера (2) ( 1,06 мкм; 0,48х0,48 мм2), XeF лазера (3) ( 0,351 мкм; 0,35х1,2 мм2) и KrF лазера (4) ( 0,248 мкм; 0,36х0,61 мм2). 2 10 20 30 40 50 60 Ýí åð ãè ÿ ë àçåð à, ì Äæ Рис.6. Зависимость эффективности ЭУФ источника от энергии KrF лазера при разном расстоянии между электродами: 1 – 3 мм; 2 – 6 мм. При увеличении межэлектродного расстояния переход зависимости эффективности в насыщенное состояние происходил при большем значении плотности мощности лазерного излучения (рис.6), что связано с падением температуры разлетающейся лазерной плазмы и уменьшением ее электрической проводимости. При использовании для инициирования разряда импульса СО2 лазера в пространстве между электродами возникало третье пятно плазмы, генерирующее ЭУФ излучение (рис.7). Показано, что причина данного эффекта заключалась во взаимодействии разрядной плазмы с продолжавшимся в течение разряда импульсом лазерного излучения. Рис.7. Изображение излучающей плазмы Повышение размеров фокального пятна лазерного излучения приводило к при воздействии импульса KrF лазера (А) и СО2 лазера (Б): 1 – пятно возле катода; 2 – пятно возле анода; 3 – третье пятно. 11 Во втором параграфе рассматривается влияние параметров схемы возбуждения разряда на выходные характеристики источника ЭУФ излучения. Показано, что энергия ЭУФ излучения линейно зависит от емкости конденсатора С1 и амплитуды зарядного напряжения U, а зависимость эффективности ЭУФ источника от величины вложенной в разряд энергии имеет характерный максимум (рис.8). 30 Ýô ô åê òè âí î ñòü, î òí . åä. увеличению времени, необходимого для сжатия плазмы в перетяжке. В результате, при относительно малой длительности разрядного импульса не происходило образования микропинча возле катода. 25 20 4 3 2 15 5 1 10 5 0 0 4 8 12 16 20 24 Âë î æåí í àÿ ýí åð ãè ÿ, Äæ Рис.8. Зависимость эффективности ЭУФ источника от вложенной в разряд энергии при разных С1: 1 – 0,25 мкФ; 2 – 0,5 мкФ; 3 – 1,0 мкФ; 4 – 1,5 мкФ; 5 – 1,8 мкФ. 5 1 1 2 4 0.8 dI/dt, 10 12 A/c Ýô ô åê òè âí î ñòü, î òí . åä. Установлено, что ключевым параметром разрядного импульса является скорость нарастания разрядного тока dI/dt. Доказано, что существует оптимальное значение dI/dt 0,41012 3 2 1 0.6 0.4 1 0.2 0 0 0 2 4 6 8 Í àï ð ÿæåí è å, ê Â Рис.9. Зависимость эффективности ЭУФ источника от зарядного напряжения при разной индуктивности L (C1 0,5 мкФ): 1 – L 4,8 нГн; 2 – L 11 нГн. 2 0 2 4 6 8 10 Í àï ð ÿæåí è å, ê Â Рис.10. Зависимость скорости нарастания разрядного тока от напряжения при разной индуктивности L (C1 0,5 мкФ): 1 - L 4,8 нГн; 2 - L 11 нГн. А/с, при котором достигается максимальное значение эффективности источника ЭУФ излучения в спектральном диапазоне 13,5 0,135 нм (рис.9 и рис.10). 12 Скорость нарастания разрядного тока влияет на динамику первого сжатия плазмы в перетяжке и описывается выражением, полученным в рамках модели «снежного плуга»: [сr0/(dI/dt)]1/2M1/4, где с – скорость света, r0 – начальный радиус плазмы, dI/dt – скорость нарастания разрядного тока, М – масса частиц плазмы на единицу длины. Рис.11. Осциллограммы разрядного тока (1) (14 кА/кл.) и ЭУФ излучения (2) (отн.ед./кл.) при разных С1 (U 4 кВ; L 4,4 нГн): А – С1 0,24 мкФ; Б – С1 0,5 мкФ; В – С1 1,6 мкФ. Увеличение длительности разрядного импульса приводит к появлению дополнительных сжатий разрядной плазмы в перетяжке и соответствующих пиков генерации ЭУФ излучения (рис.11). При этом наблюдается нестабильность генерации ЭУФ излучения при повторных сжатиях (рис.12). Найдено, что увеличение числа сжатий плазмы в перетяжке приводит к увеличению характерных размеров плазмы, излучающей в ЭУФ диапазоне. В третьем параграфе четвертой главы рассматривается метод стабилизации пространственных характеристик излучающей плазмы при осуществлении предварительного разряда. Обнаружено, что существует оптимальная задержка между инициирующим лазерным и разрядным импульсами, зависящая от плотности мощности лазерного излучения, при которой может происходить повышение эффективности источника ЭУФ излучения. Данный эффект происходит в результате замыкания межэлектродного промежутка однократно ионизованными ионами олова, образующимися при Рис.12. Типичные осциллограммы разрядного тока (1) (14 кА/кл.) и энергии ЭУФ излучения (2) (отн.ед./кл.) в режиме пикового накопления (С1 1,9 мкФ; U 5,5 кВ; L 7,2 нГн). 13 воздействии инициирующего лазерного импульса. Поскольку проводимость плазмы 1/Z, где Z – средний заряд ионов плазмы, то уменьшение среднего заряда с двукратно до однократно ионизованных ионов приводит к повышению эффективности источника ЭУФ излучения. Рис.13. Изображения излучающей плазмы и осциллограммы разрядного тока (1) (14 кА/кл.) и энергии ЭУФ излучения (2) (отн.ед./кл.) при разной полярности предымпульса (А, Б – отрицательная полярность; В, Г – положительная полярность) и разном зарядном напряжении предымпульса (А, В – U 3,5 кВ; Б, Г – U 7 кВ) (энергия лазерного импульса 30 мДж, размер фокального пятна 0,4х1,02 мм2) (С1 1,9 мкФ; L 7,4 нГн; U 4 кВ). Ê, % Показано, что предварительный разряд с небольшой амплитудой тока, протекающий через лазерную плазму до начала основного разряда приводит к уменьшению характерных размеров 100 3 плазмы, излучающей в ЭУФ диапазоне 80 (рис.13). При этом более эффективным 2 является случай, когда направление 60 тока предварительного разряда 1 противоположено току основного 40 разряда. Так, если для разряда без предымпульса при увеличении вложенной в разряд энергии до 1012 Дж значение коэффициента К, характеризующего долю энергии ЭУФ излучения, которая генерируется из области с характерным размером менее 1,5 мм, составляет 3040%, то при наличии предымпульса значение К увеличивается до 8090% (рис.14). Вероятно, данный эффект 20 0 0 3 6 9 12 Âë î æåí í àÿ ýí åð ãè ÿ, Äæ Рис.14. Зависимость среднего (1) и максимального (2) значения К от вложенной в разряд энергии для обычного разряда и среднего значения К для разряда с предымпульсом (3). 14 обусловлен диффузией магнитного поля тока предымпульса в разрядную плазму, что приводит к стабилизации разряда при повторных сжатиях плазмы в перетяжке. Согласно сделанным оценкам, время, необходимое для диффузии магнитного поля в плазму, составляет несколько десятков нс, поэтому в разряде без предымпульса эффект стабилизации наблюдается редко. В заключении кратко сформулированы основные результаты и выводы проделанной работы. Научная и практическая ценность работы Научная и практическая ценность работы заключается в следующем: - создан источник ЭУФ излучения на основе разряда типа вакуумной искры на парах олова с лазерным инициированием с эффективностью преобразования электрической энергии в излучение 22,2% в диапазоне длин волн 13,5 0,135 нм в 2 ср, и 20% в диапазоне длин волн 520 нм в 2 ср, с характерными размерами излучающей плазмы 0,2х0,3 мм2, при величине вложенной в разряд энергии 112 Дж. - показано, что плотность мощности лазерного импульса, при которой происходит насыщение зависимости эффективности источника ЭУФ излучения, уменьшается при увеличении длины волны лазерного излучения, при этом значение эффективности остается неизменным. - найден режим ввода энергии в разряд, при котором происходит улучшение энергетических и пространственных характеристик ЭУФ излучения. - результаты исследований, представленные в работе, были использованы при создании различных модификаций источников излучения в ЭУФ диапазоне спектра ( 520 нм), работающих с высокой (до 4 кГц) частотой следования импульсов в долговременном режиме и обладающих высокой средней мощностью излучения (сотни Вт). Работа выполнялась по федеральной целевой научно-технической программе «Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития науки и техники», отраслевой программе «Ультрадисперсные (нано-) материалы и технологии», Государственному контракту №40.600.1.4.0024 «Разработка и исследование разрядных импульснопериодических источников излучения в области вакуумного ультрафиолета (11,4-13,5 нм)», договорам о проведении НИР между ГНЦ РФ ТРИНИТИ и ИФМ РАН №63/04 и №145/07, по проектам МНТЦ №1727, 2411, 2412, 3015, 3599 в сотрудничестве с фирмами «Lambda Physik» (ФРГ) и «Xtreme technology Gmbh» (ФРГ), проекту РФФИ № 08-08-00672 «Исследование физических процессов в мощных электроразрядных ЭУФ источниках». 15 Апробация работы Результаты, представленные в диссертационной работе, докладывались и обсуждались на международном симпозиуме по микролитографии (Santa Clara, USA, 2002), международных симпозиумах по ЭУФ литографии (Antwerp, Belgium, 2003; Miyazaki, Japan, 2004; Barcelona, Spain, 2006; Sapporo, Japan, 2007), международном совещании по источникам ЭУФ излучения (Antwerp, Belgium, 2003), международных совещаниях «Рентгеновская оптика» (Н-Новгород, Россия, 2003; 2004), 7-ом международном симпозиуме по радиационной плазмодинамике (Москва, Россия, 2006), 11-ом международном симпозиуме по науке и технологии источников света (Shanghai, China, 2007). Публикации Основное содержание диссертации опубликовано в 16 работах: в 5 статьях в ведущих рецензируемых научных журналах из Перечня ВАК для опубликования основных результатов диссертаций на соискание ученой степени кандидата наук (редакция: апрель 2008 года), в одной статье в сборнике научных трудов, в одном патенте на изобретение, в 9 докладах и тезисах докладов, список которых приведен ниже: 1. В.М. Борисов, А.Ю. Виноходов, В.А. Водчиц, А.В. Ельцов, А.С. Иванов. Разработка мощных KrF лазеров с частотой повторения импульсов до 5 кГц // Квантовая электроника. – 2000. - Т.30. - № 9. - С.783-786. 2. U. Stamm, V.M. Borisov, I. Ahmad, S. Gotze, A.S. Ivanov, O.B. Khristoforov, J. Kleinschmidt, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, A.Y. Vinokhodov. Development of high power EUV sources for lithography // Proc. SPIE. – 2002. - V. 4688. - P.626-633. 3. В.М. Борисов, А.Ю. Виноходов, А.С. Иванов, Ю.Б. Кирюхин, С.В. Миронов, В.А. Мищенко, А.В. Прокофьев, О.Б. Христофоров. Мощный газоразрядный источник ВУФ (13,5 нм) излучения // Физика плазмы. – 2002. - Т.28. - № 10. - С.952-956. 4. В.М. Борисов, А.Ю. Виноходов, А.С. Иванов, Ю.Б. Кирюхин, В.А. Мищенко, А.В. Прокофьев, О.Б. Христофоров. Источник излучения 13,5 нм с высокой средней мощностью для литографии следующего поколения // Известия Академии Наук. Серия Физическая. – 2004. - Т.68. - № 4. - С.503508. 5. V. Borisov, A. Demin, A. Eltzov, V. Vodchits, A. Ivanov, O. Khristoforov, Yu. Kirykhin, V. Mischenko, A. Prokofiev, A. Vinokhodov. Development of high conversion efficiency high power EUV sources for lithography // Proc. of 2nd International EUVL Symposium (SEMATECH). – Antwerp, Belgium. – 2003. http://www.sematech.org/ 16 6. V. Borisov, A. Demin, A. Eltzov, V. Vodchits, A. Ivanov, O. Khristoforov, Yu. Kirykhin, V. Mischenko, A. Prokofiev, A. Vinokhodov. A comparison of EUV sources for lithography based on Xe and Sn // Proc. of EUV Source Workshop (SEMATECH). – Antwerp, Belgium. – 2003. http://www.sematech.org/ 7. В.М. Борисов, А.Ю. Виноходов, А.С. Иванов, Ю.Б. Кирюхин, В.А. Мищенко, А.В. Прокофьев, О.Б. Христофоров. Прогресс в создании мощных разрядных источников излучения в экстремальном УФ диапазоне (=13,5 нм) // Известия Академии Наук. Серия Физическая. – 2005. - Т.69. - № 2. - С.182190. 8. V. Borisov, A. Demin, A. Eltsov, A. Ivanov, O. Khristoforov, Yu. Kirykhin, V. Mischenko, A. Prokofiev, A. Vinokhodov, V. Vodchits. Xenon and tin pinch discharge sources / EUV Sources for Lithography / Vivek Bakshi Editor. Bellingham: SPIE Press, 2006. – 1057 p. 9. V. Borisov, A. Eltsov, A. Ivanov, O. Khristoforov, Yu. Kirykhin, V. Mischenko, A. Prokofiev, A. Vinokhodov, V. Vodchits. EUV sources using Xe and Sn discharge plasmas // Journal of Physics D. Applied Physics. – 2004. - V. 37. - № 23. - P. 3254-3265. 10. V. Borisov, A. Eltzov, V. Vodchits, A. Vinokhodov, A. Ivanov, O. Khristoforov, Yu. Kirykhin, V. Mischenko, A. Prokofiev. Power Scaling of DPP sources for EUV lithography: Xe or Sn? // Proc. of 3rd International EUVL Symposium (SEMATECH). – Miyazaki, Japan. – 2004. http://www.sematech.org/ 11. В.М Борисов, Ю.Б. Кирюхин, А.В. Прокофьев, О.Б. Христофоров, А.С. Иванов, А.Ю. Виноходов. ЭУФ источник с вращающимися электродами и способ получения ЭУФ излучения // Патент РФ № 2004111488/28 от 2005.10.20. 12. В.М. Борисов, А.Ю. Виноходов, В.А. Водчиц, А.В. Ельцов, А.С. Иванов, Ю.Б. Кирюхин, В.А. Мищенко, А.В. Прокофьев, О.Б. Христофоров. Мощные электроразрядные источники излучения для нанотехнологии // Материалы VII международного симпозиума по радиационной плазмодинамике (РПД-VII). – Москва. – 2006. 13. V. Borisov, A.Eltzov, V. Vodchits, A. Ivanov, O. Khristoforov, Yu. Kirykhin, V. Mischenko, A. Prokofiev, A. Vinokhodov, U. Stamm. Development of EUV sources with tin fuel and rotating disk electrodes // Proc. of 2006 International EUVL Symposium (SEMATECH). – Barcelona, Spain. – 2006. http://www.sematech.org/ 14. V. Borisov, A. Eltzov, V. Vodchits, A. Ivanov, O. Khristoforov, Yu. Kirykhin, V. Mischenko, A. Prokofiev, A. Vinokhodov. Discharge produced plasma source for EUV lithography // Proc. SPIE. – 2007. - V.6611. - P. 66110B. 15. V. Borisov, A. Eltzov, A. Vinokhodov, A. Ivanov, O. Khristoforov, Yu. Kirykhin, V. Mischenko, A. Prokofiev. The Development of High Power Discharge Produced Plasma EUV Sources For Next Generation of the 17 Semiconductor Chip Manufacturing // Proc. of the 11th International Symposium on the Science and Technology of Light Sources. – Shanghai, China. – 2007. 16. V. Borisov, A. Eltzov, A. Vinokhodov, A. Ivanov, O. Khristoforov, Yu. Kirykhin, V. Mischenko, A. Prokofiev, U. Stamm. Development of EUV sources with rotating disk electrodes at TRINITI // Proc. of 2007 International EUVL Symposium (SEMATECH). – Sapporo, Japan. – 2007. - http://www.sematech.org/
