Особенности формирования ЭУФ-излучения при оптимизации расположения собирающего зеркала в плазменных источниках Григоренко А.В. (научный руководитель доц. Целуйко А.Ф) Особливості формування ЕУФ-випромінювання при отимізації розташування збираючого дзеркала у плазмових джерелах Григоренко О.В. (науковий керівник доц. Целуйко О.Ф) Одним из главных направлений в области нано-технологий является интенсивная разработка мощных плазменных источников излучения в диапазоне экстремального ультрафиолета для производства изделий нано-электроники. Однако низкий коэффициент конверсии подводимой энергии в энергию излучения (предельный коэффициент конверсии ограничен величиной 2,6%) и невозможность (ввиду конструктивных особенностей) собрать первым коллекторным зеркалом все излучение плазмы приводят к тому, что потребляемая мощность современных плазменных источников доходит до 500 кВт! На пути увеличения эффективности таких систем задачу можно свести к увеличению мощности излучения, собираемого первым зеркалом без повышения мощности, вкладываемой в разряд. И здесь, используя плазменные источники с направленным излучением [1], за счет оптимизации расположения первого зеркала, можно собрать больше излучения плазмы в одинаковый телесный угол при одинаковой подводимой к источнику электрической энергии. Работа связана с поиском оптимального расположения первого собирающего зеркала в плазменных источниках экстремально ультрафиолетового излучения. В работе исследуется угловое распределение потока излучения в зависимости от коэффициента направленности излучения = j / j точечного плазменного источника. (Здесь j – плотность потока излучения в продольном, а j – в поперечном направлениях.) В расчетах принята эллиптическая диаграмма направленности излучения. Аналитически и численными методами были рассчитаны зависимости величины телесного угла сбора 50% излучения от коэффициента направленности . Показано, что даже в случае сильной продольной направленности излучения ( ~ 100),основная доля излучения уходит в поперечном направлении. Поэтому если в силу конструктивных особенностей невозможно собрать все излучение, то для увеличения эффективности следует выбирать плазменные источники с поперечной направленностью излучения, а первое собирающее зеркало должно охватывать плазму сбоку. Была проведена оценка конструкции нанолитографа SoCoMo [2], созданного группой XTREME technologies and EUVA Gotemba teams. Показано, что в случае бокового, а не фронтального (как в нанолитографе SoCoMo) расположении первого фокусирующего зеркала с той же поверхностью, но при наличии поперечной направленности излучения (которая достигается незначительным изменением конструкции плазменного источника) может быть получен значительный выигрыш в выходной мощности излучения. Так, при = 0,5 выходная мощность возрастает на 45%, а при α = 0,2 – в 2,4 раза. Это серьезный выигрыш, если учесть, что подводимая в системе SoCoMo мощность приближается к 500 кВт. 1. Tseluyko A.F., Lazuryk V.T, Ryabchikov D.L. et. all. The Dynamics and Directions of Extreme Ultraviolet Radiation from Plasma of the High-Current Pulse Diode. // Problems of Atomic Science and Technology, Series: plasma physics (15).– 2009.– V.1 (59).– P.165-167 2. Masaki Yoshioka, Yusuke Teramoto, Peter Zink, Guido Schriever, Gota Niimi, Marc Corthout. Tin DPP Source Collector Module (SoCoMo): Status of Beta products and HVM developments. // Proc. of SPIE.– 2010.– Vol.7636.– P.763610-1–12