Отчет

В ходе выполнения проекта по Соглашению о предоставлении субсидии от
20.10.2014 г. № 14.577.21.0115 с Минобрнауки России в рамках федеральной
целевой программы «Исследования и разработки по приоритетным направлениям
развития научно-технологического комплекса России на 2014-2020 годы» на этапе
№ 2 в период с 01.01.2015 г. по 30.06.2015 г. выполнялись следующие работы:
1) Разработка специализированного программного обеспечения для синтеза
геометрических параметров плазмонных решеток со спектрально-угловой
селективностью
с
учетом
параметров
выбранных
тонкопленочных
наноматериалов.
2)
Проведение
сравнительного
анализа
методов
получения
экспериментальных образцов комбинированных ГОЭ-ДОЭ на основе результатов
изготовления тестовых образцов ГОЭ-ДОЭ методами электронно-лучевой и
лазерной литографии, и выбор оптимального метода их получения.
3) Разработка тестовых задач для моделирования работы комбинированных
ГОЭ-ДОЭ, иллюстрирующих наличие влияния погрешностей изготовления
отдельных операций в цепочке технологического процесса на качество
формируемых ими волновых фронтов света и спектральных характеристик.
4) Разработка методических рекомендаций по расчету геометрических
параметров комбинированных ГОЭ-ДОЭ.
5) Разработка программного обеспечения для расчёта геометрических
параметров комбинированных ГОЭ-ДОЭ на основе анализа спектрально-угловых
характеристик методом фурье-мод.
6) Закупка технологического оборудования.
7) Разработка технологии напыления металлизированных покрытий для
ГОЭ-ДОЭ
с
целью
формирования
плазмонных
эффектов
наноструктурированных дифракционных решетках.
8 ) Материально-техническое обеспечение работ по п. 2.2 ПГ.
в
При этом были получены следующие результаты:
1) В результате сравнительного анализа вариантов технологических
процессов изготовления тестовых образцов ГОЭ-ДОЭ показано, что для
изготовления
плазмонных
дифракционных
решеток
следует
применять
электронно-лучевую литографию, создавая саму дифракционную решетку в слое
электронорезиста. Для изготовления рельефно-фазовых дифракционных решеток
с периодами от 1000 до 1200 нм может быть применен метод фотолитографии по
способу dot-matrix. В то же время, рельефно-фазовые дифракционные решетки с
периодами от 600 до 900 нм должны также изготавливаться методом электроннолучевой литографии. Основные технические параметры полученных тестовых
образцов ГОЭ-ДОЭ:
- период плазмонной дифракционной решетки – в среднем 420 нм;
- глубина нанорельефа плазмонного спектрального фильтра – 22 нм;
- глубина микрорельефа функциональной части ГОЭ-ДОЭ – 114 нм;
- период структуры рельефно-фазовой дифракционной решетки – от 0,61 до
1,23 мкм.
2)
Разработанное
новое
программное
обеспечение
для
расчёта
геометрических параметров комбинированных ГОЭ-ДОЭ на основе анализа
спектрально-угловых характеристик методом фурье-мод позволяет создать
концепцию
создания
рельефно-фазовой
дифракционной
решетки
для
комбинированного ГОЭ-ДОЭ.
3) В ходе выполнения 2 этапа ПНИ получены результаты, соответствующие
требованиям Технического Задания и План-графика исполнения обязательств.
Результаты
выполнения 2 этапа проекта позволят приступить на следующем
этапе ПНИ к выбору ключевых операций технологическогопроцесса и разработке
технологического
маршрута
получения
экспериментальных
образцов
комбинированных ГОЭ-ДОЭ.
Комиссия Минобрнауки России признала обязательства по Соглашению на
отчетном этапе исполненными надлежащим образом.